磁悬浮涡轮分子泵ATH-M 系列为半导体工艺设计的4种泵阿迪克森磁悬浮涡轮分子泵  五大防腐特性 自动平衡系统 嵌入式75加热系统 5轴控制 惰性气体吹扫 逆向动力密封（适用于ATH400与ATH1300型） 高流量应用            ATH 400 M, ATH 1300 M,ATH 1600 M and ATH 2300 M型是专为高压、高流量的半导体工业以及其他薄镀膜工艺而设计。  紧凑而现代的设计 可调节转速以优化抽气时的参数 高平均无故障时间 使用成本低 低噪音低振动 无需电池 应用 玻璃镀膜 微处理系统加工 离子束矫正 电子显微镜 空间模拟腔 粒子加速器 半导体工艺(刻蚀, CVD,离子插入) 镀膜与薄镀膜工艺 离子铣 以及许多研发实验磁悬浮涡轮分子泵ATH-M 系列为半导体工艺设计的4种泵阿迪克森磁悬浮涡轮分子泵五大防腐特性自动平衡系统嵌入式75加热系统5轴控制惰性气体吹扫逆向动力密封（适用于ATH400与ATH1300型）高流量应用           ATH 400 M, ATH 1300 M,ATH 1600 M and ATH 2300 M型是专为高压、高流量的半导体工业以及其他薄镀膜工艺而设计。紧凑而现代的设计可调节转速以优化抽气时的参数高平均无故障时间使用成本低低噪音低振动无需电池应用玻璃镀膜微处理系统加工离子束矫正电子显微镜空间模拟腔粒子加速器半导体工艺(刻蚀, CVD,离子插入)镀膜与薄镀膜工艺离子铣以及许多研发实验  磁悬浮涡轮分子泵ATH-M 系列为半导体工艺设计的4种泵阿迪克森磁悬浮涡轮分子泵五大防腐特性自动平衡系统嵌入式75加热系统5轴控制惰性气体吹扫逆向动力密封（适用于ATH400与ATH1300型）高流量应用           ATH 400 M, ATH 1300 M,ATH 1600 M and ATH 2300 M型是专为高压、高流量的半导体工业以及其他薄镀膜工艺而设计。紧凑而现代的设计可调节转速以优化抽气时的参数高平均无故障时间使用成本低低噪音低振动无需电池应用玻璃镀膜微处理系统加工离子束矫正电子显微镜空间模拟腔粒子加速器半导体工艺(刻蚀, CVD,离子插入)镀膜与薄镀膜工艺离子铣以及许多研发实验                                                 磁悬浮涡轮分子泵ATH-M 系列为半导体工艺设计的4种泵阿迪克森磁悬浮涡轮分子泵五大防腐特性自动平衡系统嵌入式75加热系统5轴控制惰性气体吹扫逆向动力密封（适用于ATH400与ATH1300型）高流量应用           ATH 400 M, ATH 1300 M,ATH 1600 M and ATH 2300 M型是专为高压、高流量的半导体工业以及其他薄镀膜工艺而设计。紧凑而现代的设计可调节转速以优化抽气时的参数高平均无故障时间使用成本低低噪音低振动无需电池应用玻璃镀膜微处理系统加工离子束矫正电子显微镜空间模拟腔粒子加速器半导体工艺(刻蚀, CVD,离子插入)镀膜与薄镀膜工艺离子铣以及许多研发实验                                      磁悬浮涡轮分子泵ATH-M 系列为半导体工艺设计的4种泵阿迪克森磁悬浮涡轮分子泵五大防腐特性自动平衡系统嵌入式75加热系统5轴控制惰性气体吹扫逆向动力密封（适用于ATH400与ATH1300型）高流量应用           ATH 400 M, ATH 1300 M,ATH 1600 M and ATH 2300 M型是专为高压、高流量的半导体工业以及其他薄镀膜工艺而设计。紧凑而现代的设计可调节转速以优化抽气时的参数高平均无故障时间使用成本低低噪音低振动无需电池应用玻璃镀膜微处理系统加工离子束矫正电子显微镜空间模拟腔粒子加速器半导体工艺(刻蚀, CVD,离子插入)镀膜与薄镀膜工艺离子铣以及许多研发实验                                    磁悬浮涡轮分子泵ATH-M 系列为半导体工艺设计的4种泵阿迪克森磁悬浮涡轮分子泵五大防腐特性自动平衡系统嵌入式75加热系统5轴控制惰性气体吹扫逆向动力密封（适用于ATH400与ATH1300型）高流量应用           ATH 400 M, ATH 1300 M,ATH 1600 M and ATH 2300 M型是专为高压、高流量的半导体工业以及其他薄镀膜工艺而设计。紧凑而现代的设计可调节转速以优化抽气时的参数高平均无故障时间使用成本低低噪音低振动无需电池应用玻璃镀膜微处理系统加工离子束矫正电子显微镜空间模拟腔粒子加速器半导体工艺(刻蚀, CVD,离子插入)镀膜与薄镀膜工艺离子铣以及许多研发实验